A ASML Holding anunciou um avanço significativo em sua tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV), que pode aumentar a produção de chips em até 50% até o final da década. De acordo com informações do Slashdot, a empresa holandesa, única fabricante mundial de máquinas comerciais de EUV, busca manter sua vantagem sobre concorrentes dos EUA e China.
Como a ASML conseguiu esse avanço?
A empresa conseguiu aumentar a potência da fonte de luz EUV de 600 para 1.000 watts, o que permite a produção de mais chips por hora e reduz o custo de cada unidade. A tecnologia envolve o uso de gotas de estanho aquecidas a temperaturas superiores à do sol para emitir luz EUV, que é então utilizada para imprimir chips em wafers de silÃcio.
Qual o impacto esperado na produção de chips?
Com a nova tecnologia, espera-se que as fábricas de chips possam processar cerca de 330 wafers de silÃcio por hora até o final da década, em comparação com os 220 wafers atuais. Cada wafer pode conter de dezenas a milhares de dispositivos, dependendo do tamanho do chip.
Quais são os próximos passos para a ASML?
A ASML acredita que as técnicas utilizadas para atingir 1.000 watts abrirão caminho para avanços futuros, com potencial para chegar a 1.500 watts e, eventualmente, 2.000 watts. Isso representa um caminho claro para o aumento contÃnuo da eficiência na produção de chips.
Fonte original: Slashdot